化学気相成長装置

主な仕様
真空度 10×−5Pa以下
排気系 ターボ分子ポンプ+油回転ポンプ
プレートヒーター 最高温度 400℃(さらに高温仕様も可能)
PID制御
回転にも対応できます
シャワーノズル MFCにより流量制御されたガスを基板面内均一に供給できます
材料ガス供給系 ガス供給ライン及びガス流量制御まで対応させていただきます
使用例 太陽電池開発等


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