多元蒸着装置
高真空多元蒸着装置  型式:GET-TF100-1
高性能薄膜を製作する為には質の良い真空が不可欠と考えます。
長年培って参りました超高真空技術を基に高性能高真空多元蒸着装置を
ご提供させていただきます。
2006.4.13 New
千葉大学殿(工学部 助教授 中村雅一氏と 教授 工藤一浩氏)と
化学技術戦略推進機構殿の共同研究グループは
2mm×2mmの中に約2800万個もの有機トランジスタ素子を集積して
駆動能力を高めたチップを開発されました。
この開発には GET−TF100−1 が活躍しました。 
第53回応用物理学関係連合講演会にて発表されました。
*この記事のURL
http://techon.nikkeibp.co.jp/article/NEWS/20060323/115340/
成膜室 成膜室 概略寸法 円筒横型  Φ500×L400
表面処理 超高真空対応処理
メンテナンス用扉 Φ500
基板・マスク搬入/出扉 Φ100(搬送機構付)
排気系 TMP+RP
到達圧力 10-4Pa以下
基板加熱・冷却機構 加熱温度 最高250℃(仕様変更可)
冷却温度 -150℃
蒸発源 ボート蒸発源 2台 シャッター付き
るつぼ蒸発源 2台 シャッター付き
膜圧モニター 1式
ロードロック室 グローブBOX内に基板・マスク搬入/出扉を設置し、基板の搬入/出時に
大気に触れないようにしています。
オプション 1 排気系の変更(例えばドライポンプの使用等)
2 蒸発源の仕様および台数変更等
3 真空容器のロードロック室を追加
成膜室
るつぼ蒸発源 ボート蒸発源

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