装置部品
マニピュレータ

スパッタ、MBE、CVDその他の薄膜蒸着装置に対応できるように、
各装置の蒸着環境を考慮した上で構成材料を選定して製作をしています。
基板を保持して、回転や基板加熱を行います。
基板サイズ 打ち合わせにより対応させていただきます。
基板加熱温度 標準仕様では最高900℃ですが、特殊構造を
使用することにより1100℃以上にも対応することが可能です。
基板冷却温度 基板保持方法や回転の有無によって冷却最低温度が決まります。
理想的な構造であれば液体窒素温度(-196℃)に限りなく
近づけることも可能です。
回転 手動回転とモーター回転があります。
モーター回転では回転数コントローラーにより任意の
回転数を設定することができます。
その他 お手持ちの装置にあわせて設計製作をさせて頂きます。
加熱方法 抵抗加熱のほか、赤外線導入加熱にも対応できます。

Back   Home